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产品应用
                                                                                                                                                                              


- 集成电路28-180nm 技术节点逻辑、存储、功率器件
- IMP、AA、gate、contact、poly,metal,via等工艺应用


产品特性
                                                                                                                                                                              

- 分辨率:0.12-0.4um

- 膜厚:0.3-3um

- 正负性,高深宽比,良好的工艺窗口,良好的解析度,低驻波/耐刻蚀



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